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- 化学抛光和电化学抛光的方法抛光机|自动抛光机|平面抛光机|砂带机|（一）电化学抛光零件在化学溶液中浸泡，由于化学浸蚀作用，使表面微观凸出的部分较凹洼部位优先溶解，达到整平和抛光的目的。
抛光的化学溶液有腐蚀机、缓蚀剂、表面活性剂、光亮剂等添加剂组成。
该方法的特点是设备简单，可同时抛光大批量、大型及形状复杂的零部件，鼠标数控抛光机，生产效率高，但溶液使用周期短，抛光质量较差。
化学抛光机一般用于装饰性加工，如涂饰前处理。
（二）电化学抛光电化学抛光机又称电解抛光机，其抛光原理与化学抛光相似，也是靠选择性地溶解零件表面的微小突出部分而产生光滑。
其方法是将工件放入配置好的电解质溶液中，工件作阳**，用耐蚀性的导电性能好的材料作辅助阴**，通电后工件表面既发生阳**电解。
根据尖端放电的原理，工件表面微小凸出不封优先溶解。
然后溶解产物和工件表面的电解液组成电阻高的粘稠性膜层，微小凸出部位的膜层较薄。
因而其电阻较小，从而继续保持优先溶解。
而凹洼部位的膜层厚、电阻大，溶解速度相对缓慢。
经过短时间的电解后，凸出部位被溶解整平至凹洼部位，使表面粗糙度降低，并达到光滑程度。
电化学抛光可以通过控制电流的强度及时间得到不同粗糙度的表面，达到工件表面需要粗抛或精抛甚至镜面抛光的要求。
因此得到了广泛应用。
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